전자 산업에서 초음파수 장비의 적용

Ultrapure Water는 초음파 재료 (Semiconductor Original Materials, 나노 미터 미세 세라믹 재료 등)를 개발할 목적으로 증류, 탈 이온화, 역 삼투압 기술 또는 기타 적절한 초 임계 미세 기술에 의해 생산되는 물입니다. 저항성은 18MΩ.cm보다 큽니다. 또는 18.3MΩ.cm (25 °)에 가깝습니다. 전자 산업이 왜 Ultrapure Water Equipment를 사용합니까?

Ultrapure Water는 전자 부품, 주로 회로 보드 생산에 점점 더 중요한 역할을합니다. Ultrapure Water의 품질은 회로 보드 및 전자 구성 요소의 품질, 생산 출력 및 생산 비용에 영향을 미치는 중요한 요소 중 하나가되었습니다. 전자 성분의 생산에서 초소 수는 주로 물을 청소하고 다양한 용액 및 슬러리를 준비하는 데 사용됩니다. 다른 전자 구성 요소마다 생산에서 순수한 물과 수질에 대한 요구 사항이 다릅니다. 트랜지스터 및 통합 회로의 생산에서 초음파수는 주로 실리콘 웨이퍼를 청소하는 데 주로 사용되며 소량은 화학 액체를 준비하는 데 사용됩니다. 실리콘 산화를위한 수증기 공급원, 일부 장비의 냉각수 및 전기 도금 용액 제조.

통합 회로 생산 공정의 80%는 실리콘 웨이퍼를 청소하기 위해 고순도를 사용해야합니다. 물의 품질은 통합 회로 제품의 품질 및 생산량과 밀접한 관련이 있습니다. 물의 알칼리 금속 (K, NA 등)은 절연 필름이 전압을 견딜 수있게 해줄 것입니다. 중금속 (AU, AG, CU 등)은 PN 접합 전압 및 그룹 III 요소 (B, Al, GA 등)은 N 형 반도체가 특성 악화를 유발합니다. 그룹 V 요소 (P, AS, SB 등)는 P 형 반도체의 특성을 악화시킵니다. P 형 반도체의 특성을 악화시킵니다. 물에서 박테리아에 의한 고온 탄화 후 인 (재의 약 20-50%를 차지함)은 P 형 실리콘 웨이퍼의 국소 영역을 N- 타입 실리콘으로 바꾸어 장치의 성능이 악화 될 것이다. 입자 (박테리아 포함)가 실리콘 웨이퍼 표면에 흡착되는 경우, 단락을 유발하거나 회로의 특성을 악화시킵니다. 따라서 전도도 분석기를 사용하여 전도도, 총 용해 된 고체 및 수질의 저항 값을 감지해야합니다.

전자 산업에서 초소 수의 적용의 중요성은 전자 제품의 품질과 안전을 보장하고 전자 산업의 건강한 운영을 촉진하는 것입니다. 전자 초음파 수자원 장비는 실리콘 웨이퍼, 반도체 재료 및 통합 회로 생산, 가공에서 웨이퍼 재료를 청소하기위한 고급수 생산에 사용됩니다.

전자 산업을위한 초음파수 등급
현재, 우리 나라의 전자 산업부는 전자 급 수질 기술을 4 가지 산업 수준, 즉 18MΩ.cm, 15MΩ.cm, 12MΩ.cm 및 0.5MΩ.cm으로 나누어 다양한 물질을 구별합니다. 반도체, 통합 회로 칩 및 패키지, 액정 디스플레이, 고정밀 회로 보드, 광전자 장치, 다양한 전자 장치, 마이크로 전자 산업, 대규모 규모 및 초반 규모의 통합 회로는 모두 다량의 순수한 물을 사용해야합니다. 반제품 및 완제품을 청소하기위한 고순수 및 초음파수. 통합 회로의 통합 수준이 높을수록 선 너비가 더 좁을수록 수질 요구 사항이 높아집니다.

전자 산업을위한 초소 수자원 생산 공정
1. 초음파수를 준비하기 위해 이온 교환 수지를 사용하는 전통적인 수처리 방법. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 양성 침대 → 부정적인 침대 → 혼합 침대 (다중 침대) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 사후 예비 필터 → 워터 포인트
2. 역삼 투수 처리 장비와 이온 교환 장비의 조합을 사용하십시오. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 리버스 삼투 장비 → 혼합 침대 (다중 침대) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 정밀 필터 → 워터 포인트
3. 역삼 투수 처리 장비 및 EDI (Edi) 장비를 사용하여 일치합니다. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 역 삼투 장비 → 전극화 (EDI)) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 정밀 필터 → 워터 포인트
4. 역삼 투수 처리 장비, EDI (Edi) 장비 및 연마 혼합 침대의 조합을 사용하십시오. 기본 공정 흐름은 전처리 필터 → 보안 (정밀) 필터 → RO 역 삼투 → EDI → 질소 밀봉 물 탱크 → 연마 침대 → 새로운 순환 파이프 → 워터 포인트입니다.

초소 물 준비 과정의 특성
첫 번째 유형은 ION Exchange 수지를 사용하여 초기 투자가 적고 공간이 적은 이점이 있습니다. 그러나 단점은 자주 이온 재생이 필요하고 많은 산과 알칼리를 소비하며 환경에 특정한 손상을 일으킨다는 것입니다.
두 번째 유형은 전처리로 역삼 투를 사용하며 이온 교환 장비가 장착되어 있습니다. 그것의 특성은 초기 주입 시간이 이온 교환 수지를 사용하는 것보다 높지만 이온 장비의 재생주기는 비교적 길고 산 및 알칼리 소비는 이온 수지 만 사용하는 것보다 높다는 것입니다. 더 적습니다. 그러나 그것은 여전히 ​​환경에 다소 파괴적입니다.
세 번째 방법은 전처리로 역 삼투압을 사용하며 EDI (Edi) 장치가 장착되어 있으며, 이는 환경에 유해하지 않습니다. 단점은 초기 투자가 위의 두 가지 방법에 비해 너무 비싸다는 것입니다.
네 번째 유형은 전처리를 위해 역삼 투를 사용하며 EDI (Edi) 장치, 질소 밀봉 된 물 탱크 및 연마 혼합 베드가 장착되어 있습니다. 그중에서도 질소가 밀봉 된 물 탱크는 이산화탄소 및 기타 물질이 물에 용해되어 수질에 영향을 미치는 것을 방지하여 물 탱크의 수질을 보장 ​​할 수 있습니다. 2 차 오염을 피하면 수질 저하가 발생합니다. 폴리싱 혼합 층은 화학 강수량없이 핵 등급 수지를 사용하여 순수한 물에서 하전 된 이온과 약한 전해질의 잔류 흔적을 제거하여 수질을 18MΩ 이상으로 만듭니다. 새로운 순환 파이프 라인은 수질이 오염되지 않도록합니다. 이것은 현재 매우 환경 친화적 인 초음파수 생산 공정입니다. 그것은 재생을 위해 산과 알칼리를 사용하지 않고 초음파수를 지속적으로 생산할 수 있으며 환경에 유해하지 않습니다.

전자 산업에서 초음파수의 특정 응용 영역
1. 반도체 재료, 장치, 인쇄 회로 보드 및 통합 회로 완성 및 반제품에 초음파수를 사용하십시오.
2. 초음파 물을 사용하여 초음파 재료와 초음파 화학 시약을 혼합하십시오.
3. 실험실과 조종사 공장에서 초소 물을 사용하십시오.
4. 자동차 및 가정 기기의 표면 연마 처리.
5. 광전자 제품.
6. 다른 첨단 고급 제품.

초음파수의 표준은 무엇입니까?
American ASTM D5127 전자 반도체 산업을위한 순수한 수질 타자 -1.2
중국 전자 전자 등급 초음파수 표준 GBT11446.1-1997ew-ⅰ 표준

Delfino Company는 R & D 및 수질 분석 기기의 생산에 중점을 둡니다. 당사의 측정 매개 변수에는 pH ORP 분석기, 전도도 분석기, TDS, 염분 센서, 용해 된 산소 분석기, COD 분석기, 암모니아 질소 분석기, 탁도 분석기, 클로로필 미터, 청록색 조류 미터, 잔류 클로린 센서 및 클로린 이산화염 센서가 포함됩니다. 당사의 제품은 Ultrapure Water Application에 적용 할 수 있습니다. 이 업계에 관심이 있으시면 저희에게 연락하십시오.