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전자 산업에서 초음파수 장비의 적용

December 11, 2023

Ultrapure Water는 초음파 재료 (Semiconductor Original Materials, 나노 미터 미세 세라믹 재료 등)를 개발할 목적으로 증류, 탈 이온화, 역 삼투압 기술 또는 기타 적절한 초 임계 미세 기술에 의해 생산되는 물입니다. 저항성은 18MΩ.cm보다 큽니다. 또는 18.3MΩ.cm (25 °)에 가깝습니다. 전자 산업이 왜 Ultrapure Water Equipment를 사용합니까?

Ultrapure Water는 전자 부품, 주로 회로 보드 생산에 점점 더 중요한 역할을합니다. Ultrapure Water의 품질은 회로 보드 및 전자 구성 요소의 품질, 생산 출력 및 생산 비용에 영향을 미치는 중요한 요소 중 하나가되었습니다. 전자 성분의 생산에서 초소 수는 주로 물을 청소하고 다양한 용액 및 슬러리를 준비하는 데 사용됩니다. 다른 전자 구성 요소마다 생산에서 순수한 물과 수질에 대한 요구 사항이 다릅니다. 트랜지스터 및 통합 회로의 생산에서 초음파수는 주로 실리콘 웨이퍼를 청소하는 데 주로 사용되며 소량은 화학 액체를 준비하는 데 사용됩니다. 실리콘 산화를위한 수증기 공급원, 일부 장비의 냉각수 및 전기 도금 용액 제조.


통합 회로 생산 공정의 80%는 실리콘 웨이퍼를 청소하기 위해 고순도를 사용해야합니다. 물의 품질은 통합 회로 제품의 품질 및 생산량과 밀접한 관련이 있습니다. 물의 알칼리 금속 (K, NA 등)은 절연 필름이 전압을 견딜 수있게 해줄 것입니다. 중금속 (AU, AG, CU 등)은 PN 접합 전압 및 그룹 III 요소 (B, Al, GA 등)은 N 형 반도체가 특성 악화를 유발합니다. 그룹 V 요소 (P, AS, SB 등)는 P 형 반도체의 특성을 악화시킵니다. P 형 반도체의 특성을 악화시킵니다. 물에서 박테리아에 의한 고온 탄화 후 인 (재의 약 20-50%를 차지함)은 P 형 실리콘 웨이퍼의 국소 영역을 N- 타입 실리콘으로 바꾸어 장치의 성능이 악화 될 것이다. 입자 (박테리아 포함)가 실리콘 웨이퍼 표면에 흡착되는 경우, 단락을 유발하거나 회로의 특성을 악화시킵니다. 따라서 전도도 분석기를 사용하여 전도도, 총 용해 된 고체 및 수질의 저항 값을 감지해야합니다.

conductivity sensor

전자 산업에서 초소 수의 적용의 중요성은 전자 제품의 품질과 안전을 보장하고 전자 산업의 건강한 운영을 촉진하는 것입니다. 전자 초음파 수자원 장비는 실리콘 웨이퍼, 반도체 재료 및 통합 회로 생산, 가공에서 웨이퍼 재료를 청소하기위한 고급수 생산에 사용됩니다.

전자 산업을위한 초음파수 등급
현재, 우리 나라의 전자 산업부는 전자 급 수질 기술을 4 가지 산업 수준, 즉 18MΩ.cm, 15MΩ.cm, 12MΩ.cm 및 0.5MΩ.cm으로 나누어 다양한 물질을 구별합니다. 반도체, 통합 회로 칩 및 패키지, 액정 디스플레이, 고정밀 회로 보드, 광전자 장치, 다양한 전자 장치, 마이크로 전자 산업, 대규모 규모 및 초반 규모의 통합 회로는 모두 다량의 순수한 물을 사용해야합니다. 반제품 및 완제품을 청소하기위한 고순수 및 초음파수. 통합 회로의 통합 수준이 높을수록 선 너비가 더 좁을수록 수질 요구 사항이 높아집니다.


전자 산업을위한 초소 수자원 생산 공정
1. 초음파수를 준비하기 위해 이온 교환 수지를 사용하는 전통적인 수처리 방법. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 양성 침대 → 부정적인 침대 → 혼합 침대 (다중 침대) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 사후 예비 필터 → 워터 포인트
2. 역삼 투수 처리 장비와 이온 교환 장비의 조합을 사용하십시오. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 리버스 삼투 장비 → 혼합 침대 (다중 침대) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 정밀 필터 → 워터 포인트
3. 역삼 투수 처리 장비 및 EDI (Edi) 장비를 사용하여 일치합니다. 기본 공정 흐름은 다음과 같습니다. 원수 → 모래 탄소 필터 → 정밀 필터 → 원수 탱크 → 역 삼투 장비 → 전극화 (EDI)) → 순수한 물 탱크 → 순수한 워터 펌프 → 정밀 필터 → 워터 포인트
4. 역삼 투수 처리 장비, EDI (Edi) 장비 및 연마 혼합 침대의 조합을 사용하십시오. 기본 공정 흐름은 전처리 필터 → 보안 (정밀) 필터 → RO 역 삼투 → EDI → 질소 밀봉 물 탱크 → 연마 침대 → 새로운 순환 파이프 → 워터 포인트입니다.


초소 물 준비 과정의 특성
첫 번째 유형은 ION Exchange 수지를 사용하여 초기 투자가 적고 공간이 적은 이점이 있습니다. 그러나 단점은 자주 이온 재생이 필요하고 많은 산과 알칼리를 소비하며 환경에 특정한 손상을 일으킨다는 것입니다.
두 번째 유형은 전처리로 역삼 투를 사용하며 이온 교환 장비가 장착되어 있습니다. 그것의 특성은 초기 주입 시간이 이온 교환 수지를 사용하는 것보다 높지만 이온 장비의 재생주기는 비교적 길고 산 및 알칼리 소비는 이온 수지 만 사용하는 것보다 높다는 것입니다. 더 적습니다. 그러나 그것은 여전히 ​​환경에 다소 파괴적입니다.
세 번째 방법은 전처리로 역 삼투압을 사용하며 EDI (Edi) 장치가 장착되어 있으며, 이는 환경에 유해하지 않습니다. 단점은 초기 투자가 위의 두 가지 방법에 비해 너무 비싸다는 것입니다.
네 번째 유형은 전처리를 위해 역삼 투를 사용하며 EDI (Edi) 장치, 질소 밀봉 된 물 탱크 및 연마 혼합 베드가 장착되어 있습니다. 그중에서도 질소가 밀봉 된 물 탱크는 이산화탄소 및 기타 물질이 물에 용해되어 수질에 영향을 미치는 것을 방지하여 물 탱크의 수질을 보장 ​​할 수 있습니다. 2 차 오염을 피하면 수질 저하가 발생합니다. 폴리싱 혼합 층은 화학 강수량없이 핵 등급 수지를 사용하여 순수한 물에서 하전 된 이온과 약한 전해질의 잔류 흔적을 제거하여 수질을 18MΩ 이상으로 만듭니다. 새로운 순환 파이프 라인은 수질이 오염되지 않도록합니다. 이것은 현재 매우 환경 친화적 인 초음파수 생산 공정입니다. 그것은 재생을 위해 산과 알칼리를 사용하지 않고 초음파수를 지속적으로 생산할 수 있으며 환경에 유해하지 않습니다.


전자 산업에서 초음파수의 특정 응용 영역
1. 반도체 재료, 장치, 인쇄 회로 보드 및 통합 회로 완성 및 반제품에 초음파수를 사용하십시오.
2. 초음파 물을 사용하여 초음파 재료와 초음파 화학 시약을 혼합하십시오.
3. 실험실과 조종사 공장에서 초소 물을 사용하십시오.
4. 자동차 및 가정 기기의 표면 연마 처리.
5. 광전자 제품.
6. 다른 첨단 고급 제품.

초음파수의 표준은 무엇입니까?
American ASTM D5127 전자 반도체 산업을위한 순수한 수질 타자 -1.2
중국 전자 전자 등급 초음파수 표준 GBT11446.1-1997ew-ⅰ 표준


Delfino Company는 R & D 및 수질 분석 기기의 생산에 중점을 둡니다. 당사의 측정 매개 변수에는 pH ORP 분석기, 전도도 분석기, TDS, 염분 센서, 용해 된 산소 분석기, COD 분석기, 암모니아 질소 분석기, 탁도 분석기, 클로로필 미터, 청록색 조류 미터, 잔류 클로린 센서 및 클로린 이산화염 센서가 포함됩니다. 당사의 제품은 Ultrapure Water Application에 적용 할 수 있습니다. 이 업계에 관심이 있으시면 저희에게 연락하십시오.

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작가:

Ms. Selena

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